Uutiset

Alla esittelemme yksityiskohtaisesti TFT-LCD-näytön eri ominaisuuksia:

(1) Laajamittainen: ensimmäinen suuren mittakaavan lasisubstraatti (3000 mm x 400 mm) TFT sukupolvi 1990-luvun alussa, lasisubstraattialue laajeni 6800 mm x 880 mm:iin vuoden 2000 ensimmäisellä puoliskolla, ja 950 mm x 1200 mm lasialusta on myös otettu käyttöön. äskettäin.

(2) Korkea integraatio: LCD-projektio 1,3 tuuman TFT-näyttösirun resoluutio on XGA, joka sisältää miljoonia pikseleitä. Resoluutio on. SXGA:n 16,1 tuuman amorfisen TFT-piin (1280x1024) kalvon paksuus on vain 50 nanometriä. TABONGLASin ja SYSTEMONGLASSin tekninen integraatio, tekniset vaatimukset laitteistolle ja toimitukselle sekä tekniset vaikeudet ovat korkeammat kuin perinteisessä LSI:ssä.

(3) Täydelliset toiminnot: TFT-nestekidenäyttöä käytettiin alun perin matriisiosoitteenvalintapiirinä, mikä paransi nestekidevaloventtiilin ominaisuuksia. Korkearesoluutioisissa näytöissä LCD-näyttö voi saavuttaa korkealaatuisen, korkearesoluutioisen näytön säätämällä jännitettä 0-6 näytön V-alueella (sen tyypillinen arvo on 0,2 ~ 4 V) ja ohjaamalla kohdeelementtiä oikein.

(4) Alhaiset kustannukset: Lasisubstraatit ja muovisubstraatit ratkaisevat pohjimmiltaan suurten puolijohdeintegroitujen piirien kustannusongelman ja avaavat laajan sovellustilan laajamittaisten integroitujen puolijohdepiirien sovellukselle.

(5) Prosessin joustavuus: Sputteroinnin, laserhehkutustekniikan lisäksi CVD (kemiallinen höyrypinnoitus) MCVD voi valita amorfisen kalvon, usean tuotteen kalvon ja yhden tuotteen kalvon perinteisen kalvonmuodostuksen, kuten molekyylikemiallisen höyrypinnoituksen, lisäksi. Ei vain voi tehdä piikalvoa, vaan myös muita asioita. I-VI ja tetra-V puolijohdekalvot.

Yleisillä sovellusalueilla TFT-teknologiaan perustuva LCD-nestekidenäyttö on tietoyhteiskunnan pilariteollisuus, ja sitä voidaan käyttää myös ohutkalvotransistorien nopeaan kehittämiseen. (TFT-OLED) litteä näyttö.